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      平面刻線衍射光柵(25x25x6mm)

      簡(jiǎn)要描述:平面刻線衍射光柵(25x25x6mm)
      制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試??虅潤C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

      • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
      • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
      • 更新時(shí)間:2025-11-03
      • 訪  問  量:1272

      詳細(xì)介紹

      品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
      組件類別其他應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

      平面刻線衍射光柵(25x25x6mm)


      平面刻線衍射光柵(25x25x6mm)

      制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試??虅潤C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。


      75l/mm @10.6μm


      100l/mm @10.6μm


      150l/mm @10.6μm


      300l/mm @300nm


      300l/mm @500nm


      300l/mm @1000nm


      300l/mm @3.5μm


      450l/mm @3.1μm


      600l/mm @250nm


      600l/mm @300nm


      600l/mm @400nm


      600l/mm @500nm


      600l/mm @750nm


      600l/mm @1000nm


      600l/mm @1250nm


      600l/mm @1600nm


      1200l/mm @250nm


      1200l/mm @300nm


      1200l/mm @400nm


      1200l/mm @500nm


      1200l/mm @750nm


      1200l/mm @1000nm


      1800l/mm @500nm


      特征

      材料:

      浮法玻璃

      表面光潔度:

      60-400

      尺寸誤cha:

      ±0.5 mm

      厚度公cha:

      ±0.5mm

      效率:

      60%~80% @閃耀波長

      有效孔徑:

      90%

      損傷閾值:

      350mJ/cm2@200ns脈沖激光

      40W/cm2(CW)連續(xù)激光


      產(chǎn)品編號(hào)

      產(chǎn)品名稱

      尺寸

      刻線數(shù)

      閃耀波長

      閃耀角

      378518

      刻線式光柵 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      300Lines/mm

      300nm

      2°34'

      378519

      刻線式光柵 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      300Lines/mm

      500nm

      4°18'

      378520

      刻線式光柵 25x25x6mm 300Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      300Lines/mm

      1000nm

      8°36'

      378527

      刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      600Lines/mm

      250nm

      4°18

      378528

      刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      600Lines/mm

      300nm

      5°9'

      378529

      刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      600Lines/mm

      400nm

      6°53'

      378538

      刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      600Lines/mm

      500nm

      8°37'

      378539

      刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      600Lines/mm

      750nm

      13°0'

      378540

      刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      600Lines/mm

      1000nm

      17°27'

      378541

      刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      600Lines/mm

      1250nm

      22°1'

      378542

      刻線式光柵 25x25x6mm 600Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      600Lines/mm

      1600nm

      28°41'

      378551

      刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      1200Lines/mm

      250nm

      8°37'

      378552

      刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      1200Lines/mm

      300nm

      10°22'

      378553

      刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      1200Lines/mm

      400nm

      13°53'

      378561

      刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      1200Lines/mm

      500nm

      17°27'

      378562

      刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      1200Lines/mm

      750nm

      26°44'

      378563

      刻線式光柵 25x25x6mm 1200Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      1200Lines/mm

      1000nm

      36°52'

      378564

      刻線式光柵 25x25x6mm 1800Lines/mm 浮法玻璃

      25x25x6mm

      1800Lines/mm

      500nm

      26°44'



      制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試。刻劃機(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

      制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試??虅潤C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃??叹€的平行度和位移必須精控制。

      制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇,通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜??虅澠叫卸群涂叹€的等距需要漫長的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整,可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試??虅潤C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回,并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

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