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      當前位置:首頁 > 產品中心 > > 光學元件 > Eksma 高反射鍍膜

      Eksma 高反射鍍膜

      簡要描述:Eksma 高反射鍍膜
      多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

      • 產品品牌:Eksma
      • 廠商性質:經銷商
      • 更新時間:2025-11-02
      • 訪  問  量:1282

      詳細介紹

      品牌Eksma價格區間面議
      組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

      Eksma 高反射鍍膜




      Eksma 高反射鍍膜

      介電多層高反射率鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較大可能反射率的疊層。

      產品介紹

      多層介電高反射率(HR)鍍膜是用于在AOI = 0°或45°時在特定的激光線波長處實現較高反射率的疊層。我們提供226 nm至2100 nm的HR激光線鍍膜。

      激光線高反射率鍍膜適用于外部光束處理應用,在這些應用中,甚至可能會有很小的損失。

      請發送帶有鍍膜和基材代碼的定制產品請求,以獲取報價。對于基材,請參閱我們的標準未鍍膜激光窗口部分。

      EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
      EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
      EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
      公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
      EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
      公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

      產品型號

      高反射率激光線鍍膜

      鍍膜型號

      波長

      反射率(%)

      推薦

      損傷

      AOI=0°


      AOI=45°


      nm


      AOI=0°

      AOI=45°

      基材

      閾值

      1007-i0

      1007-i45

      226

      >99

      >99

      UVFS

      1 J/cm2
      in 10 ns

      1009-i0

      1009-i45

      248

      >99

      >99

      UVFS

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1011-i0

      1011-i45

      266

      >99.5

      >99

      UVFS

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1013-i0

      1013-i45

      308

      >99.5

      >99.2

      UVFS

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1015-i0

      1015-i45

      325

      >99.5

      >99.2

      UVFS

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1017-i0

      1017-i45

      337

      >99.7

      >99.5

      UVFS

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1019-i0

      1019-i45

      355

      >99.7

      >99.5

      UVFS

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1021-i0

      1021-i45

      400

      >99.7

      >99.5

      UVFS

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1023-i0

      1023-i45

      473

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1024-i0

      1024-i45

      488-515

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1025-i0

      1025-i45

      532

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      5 J/cm2
      in 10 ns

      1027-i0

      1027-i45

      589

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      5 J/cm2
      in 10 ns

      1029-i0

      1029-i45

      616

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      5 J/cm2
      in 10 ns

      1030-i0

      1030-i45

      633

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      5 J/cm2
      in 10 ns

      1031-i0

      1031-i45

      780

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      5 J/cm2
      in 10 ns

      1032-i0

      1032-i45

      800

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      5 J/cm2
      in 10 ns

      1033-i0

      1033-i45

      830

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      5 J/cm2
      in 10 ns

      1034-i0

      1034-i45

      852

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      5 J/cm2
      in 10 ns

      1037-i0

      1037-i45

      1064

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      5 J/cm2
      in 10 ns

      1039-i0

      1039-i45

      1320

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1045-i0

      1045-i45

      1550

      >99.7

      >99.5

      UVFS, BK7

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1047-i0

      1047-i45

      2000

      >99

      >99

      UVFS, Sapphire

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1049-i0

      1049-i45

      2100

      >99

      >99

      UVFS, Sapphire

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

       

      高反射率寬帶涂層

      鍍膜型號

      波長

      反射率(%)

      推薦

      損傷

      AOI=0°


      AOI=45°


      nm


      AOI=0°

      AOI=45°

      基材

      閾值

      1106-i0

      1106-i45

      220-250

      >99

      >99

      UVFS

      1 J/cm2 in 10 ns

      1110-i0

      1110-i45

      260-340

      >99

      >99

      UVFS

      1 J/cm2
      in 10 ns

      1114-i0

      1114-i45

      350-450

      >99

      >99

      UVFS

      1 J/cm2
      in 10 ns

      1116-i0

      1116-i45

      420-680

      >99

      >99

      UVFS, BK7

      1 J/cm2
      in 10 ns

      1130-i0

      1130-i45

      600-900

      >99

      >99

      UVFS, BK7

      1 J/cm2
      in 10 ns

      1132-i0

      1132-i45

      720-880

      >99

      >99

      UVFS, BK7

      1 J/cm2
      in 10 ns

      1133-i0

      1133-i45

      760-840 nm

      >99

      >99

      UVFS, BK7

      1 J/cm2
      in 10 ns

      1142-i0

      1142-i45

      900-1100

      >99

      >99

      UVFS, BK7

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

      1144-i0

      1144-i45

      1100-1400

      >99

      >99

      UVFS, BK7

      1.5 J/cm2
      in 10 ns

       EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
      EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
      EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
      公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
      EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
      公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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