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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 可變衰減器990-0072
適用于飛秒和ND：YAG激光脈沖的可變衰減器990-0072
Eksma 可變衰減器990-0072
可變衰減器/分束器由帶偏振片支架的運動學支架制成，配有薄膜布魯斯特型偏振片和石英半波片。
產品介紹
?將激光束分為兩束手動調節的強度比，以68°角分開
?大動態范圍
?透射光束偏移?1毫米
?高光學損傷閾值
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時透射p偏振光，并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學接觸）中。半波片直徑25.4毫米（用于飛秒應用）或零級空氣間隔半波片（用于高功率應用），其放置在旋轉的偏振片支架840-0190-01中，并放置在入射的線性偏振激光束中。
可以通過旋轉波片來連續改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比，而無需改變其他光束參數。可以在很寬的動態范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。
840-0056-12運動學安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調整為±4.5°，并獲得較大的消光對比度。支架位于桿，桿支架和可移動基座820-0090上。
距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內調節。可以提供其他高度作為定制，以將標準桿和桿架更改為更高的高度。
產品型號
對于Nd：YAG激光脈沖
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0072-355 | 355 nm | 5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm |
990-0072-532 | 532 nm | 5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm |
990-0072-1064 | 1064 nm | 5 J/cm2, 10 ns pulses, 10 Hz, 1064 nm |
飛秒激光脈沖
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0072-266 | 266 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-343 | 343 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-400 | 400 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-515 | 515 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-800 | 800 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-800B | 780-820 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-1030 | 1030 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-1030B | 1010-1050 nm | > 10 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
大功率激光應用
型號 | 波長 | 激光損傷閾值 |
990-0072-266H | 266 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-343H | 343 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-400H | 400 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-515H | 515 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-800H | 800 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-800HB | 780-820 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-1030H | 1030 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
990-0072-1030HB | 1010-1050 nm | > 100 mJ/cm2, 50 fs pulse, 800 nm |
適用于Nd：YAG激光應用
通光孔徑 | 22 mm |
損害閾值 | 5 J/cm2 |
偏振對比 | >1:200 |
飛秒應用
通光孔徑 | 22 mm |
損害閾值 大功率激光應用： | >10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical |
時間分散 | t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses |
偏振對比 | >1:200 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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