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Eksma FEMTOLINE零級空氣間隙波片

簡要描述：Eksma FEMTOLINE零級空氣間隙波片
對于大功率應用，由Ø17凈孔徑的單晶石英制成。

產(chǎn)品品牌：Eksma
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時間：2025-11-01
訪問量：1418

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詳細介紹

品牌	Eksma	價格區(qū)間	面議
組件類別	光學元件	應用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

Eksma FEMTOLINE零級空氣間隙波片

Eksma FEMTOLINE零級空氣間隙波片

對于大功率應用，由Ø17凈孔徑的單晶石英制成。

Ø適用于大功率應用

Ø由單晶石英制成

產(chǎn)品型號

延遲λ/ 2

型號	中心波長	AR鍍膜范圍	延遲	通光孔徑	安裝
464-4208	1030 nm	1000-1060 nm	λ/2	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4215	800 nm	760-840 nm	λ/2	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4215D50	800 nm	760-840 nm	λ/2	Ø 40 mm	Ø 50.8 mm
464-4220	780 nm	740-820 nm	λ/2	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4232	515 nm	500-530 nm	λ/2	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4235	400 nm	380-420 nm	λ/2	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4241	343 nm	333-353 nm	λ/2	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4245	266 nm	257-275 nm	λ/2	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4246	257 nm	250-265 nm	λ/2	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm

延遲λ/ 4

型號	中心波長	AR鍍膜范圍	延遲	通光孔徑
464-4408	1030 nm	1000-1060 nm	λ/4	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4415	800 nm	760-840 nm	λ/4	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4415D50	800 nm	760-840 nm	λ/4	Ø 40 mm	Ø 50.8 mm
464-4420	780 nm	740-820 nm	λ/4	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4432	515 nm	500-530 nm	λ/4	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4435	400 nm	380-420 nm	λ/4	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4441	343 nm	333-353 nm	λ/4	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4445	266 nm	257-275 nm	λ/4	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm
464-4446	257 nm	250-265 nm	λ/4	Ø 17 mm	Ø 25.4 mm

材料	單晶石英
光軸	垂直于緩速器圓周上的刻面
波前畸變	λ/ 10 @ 633nm
表面質(zhì)量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
平行性	<10弧秒
增透膜	R <0.5％
激光損傷閾值	100 mJ / cm2，50 fsec脈沖，典型800nm

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機械，帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務，其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領(lǐng)域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設(shè)備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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