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      Eksma FEMTOLINE多級雙波長波片

      簡要描述:Eksma FEMTOLINE多級雙波長波片
      激光損傷閾值為> 100mJ / cm2,脈沖為50 fsec,典型值為800nm,通光孔徑為∅17mm∅20mm,由單晶石英制成。

      • 產(chǎn)品品牌:Eksma
      • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
      • 更新時間:2025-11-01
      • 訪  問  量:1415

      詳細介紹

      品牌Eksma價格區(qū)間面議
      組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

      Eksma FEMTOLINE多級雙波長波片


      Eksma FEMTOLINE多級雙波長波片

      激光損傷閾值為> 100mJ / cm2,脈沖為50 fsec,典型值為800nm,通光孔徑為17mm20mm,由單晶石英制成。

      Ø激光損傷閾值> 100mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800nm

      Ø17mm通光孔徑

      Ø由單晶石英制成

      型號

      延遲和波長

      463-4121

      λ @800nm + λ/2 @400nm

      463-4141

      λ @800nm + λ/4 @400nm

      463-4211

      λ/2 @800nm + λ @400nm

      463-4221

      λ/2 @800nm + λ/2 @400nm

      463-4241

      λ/2 @800nm + λ/4 @400nm

      463-4411

      λ/4 @800nm + λ @400nm

      463-4421

      λ/4 @800nm + λ/2 @400nm

      463-4441

      λ/4 @800nm + λ/4 @400nm

       

      材料

      單晶石英

      光軸

      垂直于緩速器圓周上的刻面

      波前畸變

      λ/ 10 @ 633nm

      通光孔徑

      17mm20mm

      環(huán)安裝外徑

      25.4mm+ 0.0 / -0.2mm

      表面質(zhì)量

      20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B)

      平行性

      <10弧秒

      增透膜

      R <0.5%

      波片標稱厚度

      0.2-1.2mm

      激光損傷閾值

      > 100mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800nm

       

      EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
      EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
      EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。

      公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

      我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。

      EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

      公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。

      該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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